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    • MSC/SC1/SC2薄膜制備旋涂機
      廣州金程科學(xué)儀器公司供應(yīng)的薄膜制備旋涂機,是一種薄膜制備設(shè)備,轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動迅速,旋涂均勻,操作簡單,結(jié)構(gòu)緊湊實用,為實驗室提供了理想的解決方案。
      更新時間:2025-08-08型號:MSC/SC1/SC2廠商性質(zhì):代理商
      現(xiàn)在聯(lián)系
    • RIE200plusRIE反應(yīng)離子刻蝕機
      廣州金程科學(xué)儀器公司供應(yīng)的RIE反應(yīng)離子刻蝕機,采用RIE反應(yīng)離子誘導(dǎo)激發(fā)方式,實現(xiàn)對材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特 別適合于大學(xué)、科研院所,微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實驗室進行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低,性價比高,易維護,處理快速高效。適用于所有的基材及 復(fù)雜的幾何構(gòu)形進行 RIE反應(yīng)離子刻蝕。
      更新時間:2025-08-08型號:RIE200plus廠商性質(zhì):代理商
      現(xiàn)在聯(lián)系
    • CPC-12CIF中試型等離子清洗機
      廣州金程科學(xué)儀器公司供應(yīng)的CIF中試型等離子清洗機CPC-12,是桌面型、可中試生產(chǎn)、模擬生產(chǎn)條件的等離子體清洗設(shè)備。具備等離子體清洗設(shè)備所有的功能,具有較大的腔體尺寸和樣品處理面積,使用成本低,性價比高,易維護,處理快速高效,特別適合于大學(xué),科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產(chǎn)。
      更新時間:2025-08-08型號:CPC-12廠商性質(zhì):代理商
      現(xiàn)在聯(lián)系
    • CPCP-F/CPCP-FplusCIF粉體等離子清洗機
      廣州金程科學(xué)儀器公司供應(yīng)的CIF粉體等離子清洗機,是處理粉體如粉末、顆粒狀材料樣品而設(shè)計的粉體專 用等離子清洗機,可以高效率地處理微細的甚至分子級別的超細粉體材 料,改變傳統(tǒng)真空等離子清洗機無法處理粉體樣品的問題。同時可實現(xiàn) 常規(guī)等離子清洗。
      更新時間:2025-08-08型號:CPCP-F/CPCP-Fplus廠商性質(zhì):代理商
      現(xiàn)在聯(lián)系
    • CIF-SEM掃描電鏡等離子清洗機清洗碳氫化合物
      廣州金程科學(xué)儀器公司供應(yīng)的掃描電鏡(SEM)等離子清洗機CIF-SEM采用遠程等離子清洗源設(shè)計,清洗快速、高效、低轟擊損傷,主要用于SEM 或FIB等腔體內(nèi)碳氫化合物的清洗。與電鏡配套使用,掃描電鏡等離子清洗機清洗碳氫化合物。
      更新時間:2025-08-08型號:CIF-SEM廠商性質(zhì):代理商
      現(xiàn)在聯(lián)系
    • CIF-TEMTEM透射電鏡樣品桿等離子清洗機
      廣州金程科學(xué)儀器公司供應(yīng)的TEM透射電鏡樣品桿等離子清洗機CIF-TEM采用遠程離子清洗源設(shè)計,清洗快速高效,低轟擊損傷,同時可實現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。主要用于 TEM 透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。
      更新時間:2025-08-08型號:CIF-TEM廠商性質(zhì):代理商
      現(xiàn)在聯(lián)系
    • UVO/UVOP/UVOT賽福CIF紫外臭氧清洗機
      廣州金程科學(xué)儀器公司供應(yīng)的賽福CIF紫外臭氧清洗機(UVO), 是一種簡單,經(jīng)濟,快速高效的材料表面清洗設(shè)備,能快速去除大多數(shù)無機基材(比 如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機污染物。紫外臭氧清洗機采用 長壽命UV 石英低壓汞蒸汽格柵燈,樣品臺高度可調(diào),可選加熱控溫,以便達到最佳清洗效果。
      更新時間:2025-08-08型號:UVO/UVOP/UVOT廠商性質(zhì):代理商
      現(xiàn)在聯(lián)系
    • RIE200/RIE200plus等離子刻蝕機
      廣州金程科學(xué)儀器公司供應(yīng)等離子刻蝕機,RIE反應(yīng)離子刻蝕機采用RIE反應(yīng)離子誘導(dǎo)激發(fā)方式,實現(xiàn)對材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特 別適合于大學(xué)、科研院所,微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實驗室進行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低,性價比高,易維護,處理快速高效。適用于所有的基材及 復(fù)雜的幾何構(gòu)形進行 RIE反應(yīng)離子刻蝕。
      更新時間:2025-08-08型號:RIE200/RIE200plus廠商性質(zhì):代理商
      現(xiàn)在聯(lián)系
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